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VGT-12162FH非硅基微電子元件超聲波清洗機(jī)
發(fā)布時(shí)間:2022-06-22 08:29:44閱讀:(999)


非硅基芯片、微電子元件(是指在芯片上實(shí)現(xiàn)的電阻、電容、晶體管等)。還有一種說(shuō)法是,微電子元件是指芯片中的線寬在一微米上下的器件,更小的稱作納米器件。


威固特專業(yè)做超聲波清洗機(jī),在清洗芯片、微電子元件等產(chǎn)品上積累的經(jīng)驗(yàn)而言,得出不管是清洗前或者清洗中以及清洗完畢這個(gè)清洗工序,都需注重。因不管是哪個(gè)工序都得保證產(chǎn)品最后清洗的成品質(zhì)量。


威固特一臺(tái)型號(hào)為VGT-12162FH半自動(dòng)超聲波清洗機(jī),為12個(gè)功能槽,配置了循環(huán)過(guò)濾系統(tǒng)、自動(dòng)恒溫系統(tǒng)、拋動(dòng)系統(tǒng)、電控裝置等組成。


VGT-12162FH半自動(dòng)超聲波清洗機(jī)在清洗產(chǎn)品的前、中期配置的清洗系統(tǒng)為超聲水劑清洗槽、市水漂洗槽、純水噴淋漂洗槽、純水漂洗槽等都有各自的特點(diǎn)展示:


其一,每槽設(shè)四面溢流口,各槽均為獨(dú)立循環(huán)槽,由循環(huán)泵將洗劑由儲(chǔ)液箱抽出經(jīng)過(guò)濾后再運(yùn)回清洗槽,即字母槽循環(huán)。


其二,設(shè)置獨(dú)立循環(huán)系統(tǒng)。


其三,各槽底部設(shè)排液閥且互相串聯(lián)至洗劑排管(與純水總排管分開(kāi))。


其四,清潔溶液經(jīng)循環(huán)泵重新抽入清洗槽,實(shí)現(xiàn)自我循環(huán),提高溶液的利用率,而溢流液排放到總排管。


其五,設(shè)市水進(jìn)口,可分別接至各洗槽及儲(chǔ)液箱。


其六,槽體左右側(cè)各設(shè)一排噴桿,每根噴桿均布4-5個(gè)噴嘴,噴淋泵由儲(chǔ)液槽中抽出液體經(jīng)過(guò)濾后由噴嘴噴出,傾斜向下噴淋,且噴嘴為扇形,噴灑范圍更廣。


其七,槽底部設(shè)常開(kāi)閥。


其八,設(shè)純水進(jìn)口,設(shè)浮球閥控制自動(dòng)補(bǔ)充純水。


VGT-12162FH半自動(dòng)超聲波清洗機(jī)在清洗最后的烘干程序結(jié)構(gòu):


其一,槽面設(shè)齒狀溢流結(jié)構(gòu),純水由純水預(yù)熱箱進(jìn)入,由槽體底部接入清洗槽內(nèi)。槽外貼保溫棉厚10mm。


其二,外貼發(fā)熱板2KW,槽體設(shè)“OMRON”數(shù)顯溫控系統(tǒng),檢測(cè)槽內(nèi)工作溫度,溫控范圍:常溫~100℃。


其三,高精度表面清洗除前面需要有合理的清洗工藝和配置外,更需要良好的脫水效果。工件表面如果有任何垢點(diǎn)或積水點(diǎn),最后都將導(dǎo)致清洗前期的失敗。高純水高溫慢拉脫水是芯片或者玻璃產(chǎn)品等高要求的是高精度清洗少不了的一道工序,有效的形成均勻的熱純水膜,迅速散失表面水份,實(shí)現(xiàn)表面高清潔度目的,為后續(xù)干燥奠定有利基礎(chǔ)。


其四,烘干槽外貼保溫棉,熱風(fēng)從烘干槽四周進(jìn)入,底部回風(fēng)。


其五,出風(fēng)口設(shè)有高溫高效過(guò)濾器及空氣加熱管。


其六,槽體上部設(shè)活動(dòng)缸蓋。


其七,6KW空氣加熱管置于加熱包內(nèi)。


其八,在烘干槽正上方的機(jī)架頂部設(shè)置一個(gè)FFU層流送風(fēng)單元。由上往下吹形成的負(fù)壓風(fēng),致使工件加熱后附著物不易粘附。


其九,因慢拉槽液溫較高,如無(wú)頂部FFU的壓風(fēng),大量的水汽將往上騰,水汽會(huì)再次附著于提出的產(chǎn)品上,安裝FFU后,可在上方形成局部正壓,大部分水汽從缸面的抽氣口抽走。


其十,拋動(dòng)電機(jī)通過(guò)偏心輪帶動(dòng)連桿上下運(yùn)動(dòng),從而實(shí)現(xiàn)拋動(dòng)架帶動(dòng)洗籃在清洗槽內(nèi)作上下運(yùn)動(dòng)。運(yùn)行穩(wěn)定性好,噪聲小。


其十一,清洗過(guò)程中工件做均勻地拋動(dòng),可以增加工件與液體的摩擦,有利于表面污垢迅速脫落,提高清洗效果。

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